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orc半導體用露光裝置PPS-8200/8300的用途和特長是什么

發(fā)布時間:2025-04-22
用途:
支持多種應用程序
支持wl-csp、igbt、cis等的光刻6/8/12英寸。
特長:
寬帶曝光(與配方聯(lián)動的自動切換ghi線gh線,i線)。
搭載可變na功能(0.16和0.1的可變)。
最多8個字段的條形圖設計格式。
由抗蝕氣體和周邊環(huán)境化學保護的光學系統(tǒng)。
規(guī)格:
型式pps-8200/8300
ウェーハサイズ6/8/12インチ
解像力2.0 µml/s(2.0 µm レジスト厚)
na(開口數(shù))0.16、0.1可変
縮小比1:1
fieldサイズ52mm × 33mm
露光波長ghi-line gh-line i-line(レシピ連動)
レチクルサイズ6inch
重ね合せ精度≦0.5 µm(|ave|+3σ)
裝置サイズ/重量(w)2,260×(d)3,460×(h)2,500mm / 5,500kg
主要オプションバックサイドアライメントシステム
ウェーハ周辺露光システム
ウェーハ周辺非露光システム
薄ウェーハ搬送システム
gem通信対応
インライン対応
上一個:配變臺區(qū)雙向識別儀
下一個:水熱合成反應釜的廣泛應用

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